平面光柵被設(shè)計(jì)成滿足尺寸，波長(zhǎng)范圍，入射角和衍射角的規(guī)格，但不適用于光學(xué)系統(tǒng)的特定焦距。因此，只要前面提到的四個(gè)參數(shù)相同，就可以將相同的光柵用于不同的光學(xué)裝置。其光柵線輪廓是對(duì)稱的正弦曲線，光柵線深度針對(duì)使用的光譜區(qū)域進(jìn)行了優(yōu)化。為了獲得率，這些光柵優(yōu)先選用于僅存在兩個(gè)衍射級(jí)（-1和0）的配置中，即高刻線頻率。在這種情況下，其效率與刻劃閃耀光柵的相當(dāng)或更好。橫跨光柵表面的光柵深度變化非常小，對(duì)于非常高的刻線頻率也是如此。這意味著您可以充分利用所有光柵表面，以獲得儀器的通光量。

　　光柵由標(biāo)尺光柵和光學(xué)讀數(shù)頭兩部分組成。一般固定在機(jī)床的活動(dòng)部件上，如工作臺(tái)。光柵讀數(shù)頭裝在機(jī)床固定部件上。指示光柵裝在光柵讀數(shù)頭中。標(biāo)尺光柵和指示光柵的平行度及二者之間的間隙（0.05-0.1mm）要嚴(yán)格。當(dāng)光柵讀數(shù)頭相對(duì)于標(biāo)尺光柵移動(dòng)時(shí)，指示光柵便在標(biāo)尺光柵上相對(duì)移動(dòng)。

　　平面光柵的通光量基于光柵的光譜儀器的通光量取決于許多因素，例如光源的輻射亮度，光學(xué)系統(tǒng)的F數(shù)，入口狹縫的寬度和高度，儀器的光譜帶寬等。在單色器中，使用高頻全息光柵通常比低頻率的經(jīng)典刻劃光柵更有效，盡管經(jīng)典刻劃光柵的效率可能更高。具有高頻率的光柵提供更高的波長(zhǎng)色散。因此對(duì)于給定的波長(zhǎng)分辨率，可以在單色器中使用更寬的狹縫，這能提高通光量。

　　當(dāng)光柵移動(dòng)一個(gè)柵距，條紋便移動(dòng)一個(gè)條紋寬度，理論上光柵亮度變化是一個(gè)三角波形，但由于漏光和不能達(dá)到很大的亮度，被削頂削底后而近似一個(gè)正弦波。硅光電池將近似正弦波的光強(qiáng)信號(hào)變?yōu)橥l率的電壓信號(hào)，經(jīng)光柵位移—數(shù)字變換電路放大、整形、微分輸出脈沖。每產(chǎn)生一個(gè)脈沖，就代表移動(dòng)了一個(gè)柵距那么大的位移，通過(guò)對(duì)脈沖計(jì)數(shù)便可得到工作臺(tái)的移動(dòng)距離。